Laser & Semiconductor manufacturing bot
@Optical_bot
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レーザや半導体製造に関するニュース・イベント情報・プレスリリース等を発信します。
Joined September 2015
［FT］レーザー兵器、開発加速 低コストでドローン迎撃：日本経済新聞
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トンネル老朽化、レーザーで診断 理研発のフォトンラボ：日本経済新聞
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高性能な半導体をより速く製造する、次世代の極端紫外線リソグラフィ技術 - fabcross for エンジニア
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RT @1p_semicon: Micronのこの教育資料、半導体の「製造」現場に一歩二歩踏み込んだ詳しくも分かりやすい解説がなされていて良き🦆 全95ページ Introduction to Fabrication - Reviewed 2025 Micron Techn…
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EUV露光が実用化する以前、それまでのArF露光に代えて、光源の波長が157 nmとより短いF2（フッ素）光源を利用するための技術開発が進められていた。しかし、短波長光用の光学系やマスク、レジスト材料などの開発が難航し、実用化には至らなかった。
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RT @R3000C: Samsungの2nm（SF2）によるExynos 2600のテスト生産は（TSMCの半分の）30％の歩留まりを達成した それでも3nmの惨状を鑑みれば進歩である、と。 30%の歩留まりというのは受注獲得…
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RT @mems6934: EUVスキャナーのミラーは“ZERODUR”でできている。この写真にあるオレンジ色の材料がそれで、熱膨張率がほぼゼロのリチウムアルミノシリケート系ガラスセラミックだ。これは負の熱膨張率のナノ結晶を正の熱膨張率の非晶質が包んだ微細構造を持っていて、これ…
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RT @semi_journal_jp: SCHOTT社のZERODUR、聞いたことはありましたが凄い材料ですね... ・熱膨張係数は0±7ppb/K ＝鉄の1/1700 ＝長さ1mが50℃上昇していも0.35μmしか伸びない
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【図解】ASMLのEUV露光技術と半導体微細化に向けた今後の戦略 ～技術の基礎から収益構造まで詳しく解説
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「AIにアナログIMC」「EUVドライレジスト」 海外動向 - 日経テックフォーサイト
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ダイヤモンド半導体、26年度に試供品 佐賀大教授が起業 - 日本経済新聞
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次世代EUV露光、対応加速 レーザーテックは独自光源 - 日経テックフォーサイト
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RT @ProbablyClass1: KLA Corporation社（2019年にKLA-Tencorから改名）は半導体・マスク検査の総合企業としてトップに君臨する企業ですが、装置開発やM&Aの歴史を当時の写真や記事で紹介しているこちらのサイトが大変興味深く勉強になります。…
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再興なるか「MEMS」、スマホ・車の事業につなぐ支援を：日本経済新聞
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